A linha de esmaltes Ana Hickmann tem como um de seus conceitos o empoderamento feminino, pois toda mulher é única e tem sua beleza particular. E para realçar a elegância de cada uma é que a linha foi pensada e desenvolvida. Composta por tonalidades inspiradas em tendências internacionais, modernas, sofisticadas e que seguem os mais rígidos padrões de qualidade, os esmaltes Ana Hickmann têm alta fixação e fácil espalhabilidade, proporcionando brilho extra e cobertura perfeita.

• Durabilidade
• Brilho
• Secagem rápida
• Ingredientes de alta qualidade
• Tecnologia no processo
• Variedade de tonalidades
• Variedade de combinações

MODO DE USAR: Agite antes de usar. Aplique sobre as unhas com auxílio do pincel. COMPOSIÇÃO: Butyl acetate, ethyl acetate, nitrocellulose, tosylamide-formaldehyde resin, toluene, dibutyl phthalate, stearalkonium hectorite, sílica, isopropyl alcohol, malic acid. PODE CONTER: CI 77861, CI 77019, CI 77891, CI 42090:2, CI 77491, CI 15850:1, CI 19140, CI 77266, CI 15850:2, CI 77510, CI 15880 PRECAUÇÕES: Uso externo. Manter fora do alcance de crianças, longe de calor excessivo, fogo e umidade. Usar somente em adultos. Não aplicar sobre a pele lesionada ou infeccionada. Em caso de irritação retirar o esmalte e procurar auxílio médico   A Ana Hickmann Esmaltes sempre trazendo novidades para você. Apresentamos nossa nova linha PREPARO E FINALIZAÇÃO composta por três produtos inéditos e três dos nossos queridinhos que vocês já conhecem:  BASE - Indicada para o preparo das unhas para receber o esmalte. MODO DE USAR Agite antes de usar. Aplique sobre as unhas com auxílio do pincel.  PRECAUÇÕES Uso externo. Manter fora do alcance de crianças, longe de calor excessivo, fogo e umidade. Usar somente em adultos. Não aplicar sobre a pele lesionada ou infeccionada. Em caso de irritação retirar o esmalte e procurar auxílio médico.

COMPOSIÇÃO:  Butyl Acetate, Ethyl Acetate, Nitrocellulose, Tosylamide - Formaldehyde Resin, Tolluene, Dibutyl Phthalate, Stearalkonium Hectórite, Sílica, Isopropyl Alcohol, Malic Acid.